二手密炼机-达刚机械厂有保修服务-150升二手密炼机出售 ：

装料容量

即混炼容量，容量不足会降低对胶料的剪切作用和捏炼作用，甚至出现胶料打滑和转子空转现象，导致混炼效果不良。反之，容量过大，胶料翻转困难，使上顶拴位置不当，使一部分胶料在加料口颈处发生滞留，从而使胶料混合不均匀，混炼时间长，并容易导致设备超负荷，能耗大。因此，混炼容量应适当，通常取密闭室总有效容积的60%～70%为宜。密炼机混炼时装料容量可用下列经验公式计算：Q——装料容量，Kg；K——填充系数，通常取0.6～07；V——密闭室的总有效容积，L；ρ——胶料的密度，g/cm3。填充系数K的选取与确定应根据生胶种类和配方特点，设备特征与磨损程度、上顶拴压力来确定。NR及含胶率高的配方，K应适当加大；合成胶及含胶率低的配方，K应适当减小；磨损程度大的旧设备，K应加大；新设备要小些；啮合型转子密炼机的K应小于剪切型转子密炼机；上顶拴压力增大，K也应相应增大。另外逆混法的K必须尽可能大。

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视频作者：东莞市厚街达刚机械厂

密炼机的作用,哪里买密炼机价格便宜

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当密炼机遇见紫外线会擦出怎样的火花

     紫外线技术已经在很多方面都有应用，而且让人一看就有很的感觉，那么当密炼机遇到紫外线会擦出什么样的火花呢？紫外线技术能为密炼机带来什么样的改变呢？

     密炼机的自动化电气化已经实现，所谓密炼机自动化控制就是有把重要系统都设置在一个小小的芯片上面，那么怎样处理芯片上的东西是，使它更加的细腻更加的灵敏是很重要的，所以我们借用EUV光刻技术将更小的晶体管蚀刻在密炼机系统的微芯片上，即用超短波长的光在现有微芯片上制造比目前精细4倍的图案。只不过要想做到这一点，EUV光刻技术面临着理化工等多个方面的挑战。通过将波长缩短到13.5纳米，芯片上的图案可缩小到5纳米或更小。芯片上的集成电路图案是通过让光透过一个遮蔽物照射在一块涂满光阻剂的硅晶圆上制成，我们都知道一块芯片能容纳的晶体管数量每隔几年就可以翻番，但是现在这一速度正在慢慢降低，或者说走向尽头。光越暗淡，凝固光阻剂需要的时间也越长，而且因为光刻技术是微芯片制造过程中慢的步骤，所以，EUV光源的强度对降低成本至关重要。在芯片上蚀刻更小图案方式是使用波长更短的光波。